Toshiba создала молекулярный фоторезист для euv-литографии

      Комментарии к записи Toshiba создала молекулярный фоторезист для euv-литографии отключены

Toshiba создала молекулярный фоторезист для euv-литографии

Toshiba заявляет о том что создала высокочувствительный фоторезист для литографического процесса с применением сверхглубокого ультрафиолета EUV (extreme ultraviolet) при производстве полупроводников. Преимущества материала обоснованы на протяжении опробований с применением 20-нм техпроцесса.

Достижение принципиально важно вследствие того что вместе с повышением плотности размещения полупроводниковых элементов, в то время, когда литографические разработки подходят к 20-нм масштабам, простые полимерные фоторезисты уже не справляются с возложенными на них задачами. Размеры их связи и молекул между молекулярными цепочками являются ограничителем. К тому же, сегодняшнее оборудование для аргон-фторидной лазерной экспозиции не может обеспечить требуемых разрешений.

Ответ – в переходе на EUV-фоторезист и литографию, основанный на низкомолекулярном веществе.

При нанесении рисунка полупроводниковых цепей на подложку необходимы хорошие и негативные фоторезисты, что разрешает сохранить точность структуры. При хорошем экспонировании подвергшиеся облучению участки удаляются с пластины. При негативном – удаляются участки, не попавшие под излучение.

Низкомолекулярный состав Toshiba взяла из производного соединения труксена (truxene), что более стоек, чем полимеры. По окончании успешного получения тестового рисунка на подложке в 20-нм масштабе компания собирается продолжить совершенствование молекулярного резиста и его подготовку к выпуску 20-нм высокоинтегрированных LSI-компонентов. В соответствии с Интернациональному графику полупроводниковых разработок (International Technology Roadmap for Semiconductors, ITRS), широкомасштабное производство этого поколения устройств начнётся в 2013 году.

Размещено в NanoWeek,

  • Прошлая статья: Солнечные ячейки-оригами
  • Следующая статья: Cупераккумулятор на ионной жидкости

Пленочный фоторезист Два способа (пленка и бумага )изготовление печатных плат в домашних условиях


Интересные записи на сайте:

Подобранные по важим запросам, статьи по теме: